Монокристали Tl1-xIn1-xGexSe2 є новим напівпровідниковим матеріалом з шаруватою кристалічною структурою. Ці кристали перспективні для створення на їх основі детекторів і приймачів випромінювання, а також функціональних пристроїв, керованих електричним полем, що працюють в умовах жорсткої радіації. Збільшений за останні роки інтерес дослідників до твердих розчинів на основі монокристалів Tl1-xIn1-xGexSe2 обумовлений сильною анізотропією їх фізичних властивостей. Ці кристали прозорі в широкому спектральному діапазоні; мають слабку чутливість електричних властивостей до введених домішок, а також високу фотопровідність [3]. Все це робить дані матеріали особливо цікавими, як з точки зору з’ясування фундаментальних особливостей кристалічної будови шаруватих напівпровідників, так і з точки зору технічного застосування.
Ось чому збільшення класу саме шаруватих напівпровідників, отримання досконалих монокристалів і подальше вивчення комплексу їх фізичних властивостей – актуальні завдання в галузі сучасної фізики твердого тіла.
Метою даного дослідження є вивчення оптичних властивостей напівпровідникового матеріалу Tl1-xIn1-xGexSe2 .
Монокристали Tl1-xIn1-xGexSe2 були вирощені методом Бріджмена-Стокбаргера [1].
Спектри поглинання монокристалів Tl1-xIn1-xGexSe2 використовуються для вивчення енергетичної щілини і міжзонного переходу з’єднання. Коефіцієнт поглинання був отриманий з експериментальних значень абсорбції при різних температурах зразка. Типові спектри отримані при 100, 150, 200, 250 і 300 К для Tl1-xIn1-xGexSe2.
Коефіцієнт поглинання розраховувався з співвідношення [4. с.456]:
Please use another browser to view content, (1)Де T=I/I0 - коефіцієнт пропускання; d – товщина зразка; R – коефіцієнт відбивання. Коефіцієнти оптичного поглинання, визначені для всіх температур з використанням значення R при кімнатній температурі. Зроблене припущення, що зміна температури від 10 до 320 К призводить до незначної зміни в R [5].
Аналіз оптичних спектрів поглинання в досліджуваних об’єктах виявив три області спектральної залежності коефіцієнта поглинання: - експоненційну область в інтервалі 0 – 100 см-1 і області непрямих і прямих оптичних переходів вище експоненційної області.
Результати проведеної оцінки при температурах 100 – 300 К представлені в табл.1.
Таблиця 1
Пряма (Egd) і непряма (Egi) заборонена зона, енергія Урбаха та параметр крутизни монокристалів Tl1-xIn1-xGexSe2 при різних температурах
Зразки
|
Темп, K |
Egd, eВ |
Egi, eВ |
Енергія Урбаха, (мeВ) |
Параметр крутизни |
x=0.1 |
100 |
1.72 |
1.67 |
33 |
0.261 |
150 |
1.71 |
1.65 |
36 |
0.359 |
|
200 |
1.70 |
1.61 |
39 |
0.442 |
|
250 |
1.68 |
1.58 |
43 |
0.501 |
|
300 |
1.66 |
1.56 |
50 |
0.517 |
|
x=0.2 |
100 |
1.88 |
1.69 |
76 |
0.113 |
150 |
1.85 |
1.66 |
78 |
0.116 |
|
200 |
1.82 |
1.62 |
79 |
0.218 |
|
250 |
1.78 |
1.59 |
80 |
0.269 |
|
300 |
1.77 |
1.58 |
82 |
0.315 |
Як слідує із табл.1 із збільшенням вмісту GeSe2 в твердому розчині зростає ширина енергетичної щілини як при непрямих так і при прямих дозволених переходах. Таке зростання Eg можна пов’язати із механізмом утворення твердого розчину, згідно з яким відбувається статистичне заміщення атомів In атомами Ge та збільшення концентрацій вакансій талію VTl. Внаслідок статистичного заміщення атомів In (In+3) атомами Ge (Ge+4) утворюються донорні центри, концентрація яких збільшується із збільшенням х. Утворення позитивно заряджених іонів (донорів) та негативно заряджених іонів (VTl - акцепторів) веде до зростання іонного зв’язку між ними. Збільшення енергії зв’язку між атомами кристалу веде до зростання Eg. Крім того, додатковий внесок в зміну Eg можуть робити вакансії кристалографічної гратки, які створюють деформаційний потенціал, що відповідає розтягу гратки [4, с.456]. Більшість експериментальних результатів різних авторів свідчить, що зменшення параметрів кристалічної гратки веде до зростання Eg, це добре проявляється в експериментах по гідростатичному стиску кристалів [4, с.456].
Із збільшенням температури ширина енергетичної щілини досліджуваних сполук як при прямих так і при непрямих дозволених переходах зменшується (табл. 1.), що може бути зумовлено: а) взаємним відштовхуванням рівнів в зонах при збільшенні електрон-фононної взаємодії; б) тепловим розширенням решітки (ангармонізм коливань) і відповідною залежністю енергетичної щілини від сталої решітки; в) згладжуванням періодичного потенціалу, що описується фактором Дебая-Уоллера; г) взаємодією міжзонних станів [5, 6].
Розраховані температурні коефіцієнти зміни ширини забороненої зони при прямих (dEgd / dT) і непрямих (dEgi / dT) дозволених переходах (табл. 1). Як видно, всі температурні коефіцієнти мають від’ємні знаки, що дозволяє припустити, що внесок електрон-фононної взаємодії при збільшенні температури більший ніж внесок від теплового розширення решітки. Ширина забороненої зони для непрямих оптичних переходів в монокристалах
Tl1-xIn1-xGexSe2 (х=0.1; 0.2) менша, ніж для прямих оптичних переходів. Ця зміна є типовою для кристалів що мають шарувату структуру [6, с.93].
Робота виконана за підтримки Міністерства освіти та науки України (Договір М/106 – 2014 від 23.06.2014).
Список літератури
- M.Yu. Mozolyuk, L.V. Piskach, A.O. Fedorchuk, I.V. Kityk, I.D. Olekseyuk, O.V. Parasyuk Journal of Alloys and Compounds 509 (2011) 2693
- F. Urbach, Phys. Rev. 92 (1953) 1324
- G. Myronchuk, S. Danylchuk, O. V. Parasyuk, L. V. Piskach, and A. O. Fedorchuk Cryst. Res. Technol., 1–12 (2013) /DOI 10.1002/crat.201300126]
- G. L. Myronchuk G. E. Davydyuk O. V. Parasyuk O. Y. Khyzhun R. A. Andrievski A. O. Fedorchuk S. P. Danylchuk L. V. Piskach M. Y. Mozolyuk / J Mater Sci: Mater Electron DOI 10.1007/s10854-013-1285-0
- I. V. Kityk, J. Eboth´e, A. El Hichou, B. El Idrissi, and M. Addou, Journ. of Optics A: Pure and Applied Optics, 5, 61(2003).
- B. Gurbulak, S. Duman, A. Ates Czechoslovak Journal of Physics Vol. 55 (2005) 93.